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pcb電路板內層斷線(xiàn)的影響因素

發(fā)布日期:2019年11月01日 瀏覽次數:

      大家好,您知道pcb電路板的內層斷線(xiàn)影響因素嗎?今天小編來(lái)具體為大家分析下,希望對大家有所幫助。

  1、內層清洗

  內層清潔的主要目的是去除內層板面上的油污及氧化層,試驗時(shí)我們人為地將清洗速度加快,水壓降低,烘干段使用冷風(fēng),使之清洗不徹底,留有部分微小雜物,板上殘留的水漬形成一些氧化點(diǎn),曝光點(diǎn)位置處斷線(xiàn);清洗不凈,有微小雜物處銅面形成凹陷,凹陷的深淺不一,粗淺推論斷線(xiàn)是由于氧化層使貼膜不牢,凹陷是由于雜物造成膜碎與銅面的結合未能與厚度均勻、膜膠均一的干膜一樣牢固,經(jīng)過(guò)顯影,蝕刻的高壓沖刷,膜最終受到侵蝕,蝕啟刻掉一部分銅層造成斷線(xiàn)的凹陷。

  2、貼膜

  水溶性干膜從二十世紀七十年代后期批量使用,經(jīng)過(guò)不斷改型,至今制程成熟穩定,解象度也可達1.5mil,廣泛使用于圖形轉移制程中。然而它在用于超薄板材時(shí)對貼膜機有很高要求。這次試驗我們用的是基材厚度0.1mm的覆銅板,兩面銅箔厚度均為35μm,圖形最小線(xiàn)寬為0.2mm,試驗結果我們發(fā)現斷線(xiàn)情況較為嚴重,且蝕刻后退膜前發(fā)現一小部分線(xiàn)條和焊盤(pán)邊緣有膜脫離現象,已造成焊盤(pán)缺口及線(xiàn)條斷線(xiàn)。究其原因可能是因為基材太薄,貼膜機對其壓力不夠,造成貼膜不牢。隨后我們在兩塊基材厚度0.1mm的內層板間一相同大小的厚度0.53mm的覆銅板再做試驗,結果斷線(xiàn)情況明顯好轉,膜脫離現象也消失了。到此我們可以確定貼膜性是內層線(xiàn)重要影響因素之一。

  3、曝光

  水溶性干膜是一種感光搞蝕劑,其感光聚合過(guò)程如下:因此,曝光量對干膜使用性能有著(zhù)決定性的影響。試驗中我們適當減少曝光時(shí)間一即降低曝光量,顯影后出現部分膜起翹,蝕刻后斷線(xiàn)情況也嚴重。這是曝光量不足造成過(guò)顯形成的,所以在內層生產(chǎn)過(guò)程中曝光量一定要掌握好,一定要足,但又不能過(guò),否則會(huì )出現顯影不凈的情況。

  

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  4、顯影

  該試驗過(guò)程中我們分別提高了顯影液的濃度和減慢了顯影速度。結果內層板上均有部分斷線(xiàn)和過(guò)蝕現象。這說(shuō)明過(guò)顯也是內層斷線(xiàn)的因素之一,控制好顯影液濃度及顯影速度至關(guān)重要。由于內層基材較薄,顯影過(guò)程中易卷入顯影機中,因此很薄的內層板應以厚板子牽引顯影蝕刻或采用其它有效方法。

  5、蝕刻

  有時(shí)內層板兩面銅箔厚度不同,這就對我們蝕刻技術(shù)的掌握要求很高。蝕刻液的濃度蝕刻速度,噴嘴壓力的偏差均會(huì )造成缺口甚至斷線(xiàn),這在我們的試驗中均有體現。

  6、折痕

  薄的內層板由于制程中的不小心,很易造成折痕。試驗中我們刻意造成一些折痕,并在其位置作上標記,結果表明折痕處大部分有缺口和斷線(xiàn)。分析其原因可能是由于折痕造成貼膜不夠牢或顯影時(shí)碎膜。因此在制程應小心操作。


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